实现ICF均匀照明的二元光学器件的混合优化设计  

Design Binary Optics Elements for ICF Uniform Illumination with Hybrid Optimization Method

作　　者：郑学哲[1] 王凌 严瑛白[1] 金国藩[1] 

机构地区：[1]清华大学精密测试技术及仪器国家重点实验室

出　　处：《中国激光》1998年第3期265-269,共5页Chinese Journal of Lasers

基　　金：国家高技术惯性约束委员会及国家自然科学基金

摘　　要：结合模拟退火和遗传算法各自的特点，提出了一种混合算法，用以设计阵列型惯性约束核聚变（ＩＣＦ）均匀照明系统中二元阵列单元的位相分布。混合算法充分利用了遗传算法的并行性及保留一定历史信息的特性，并用模拟退火的温度参数控制收敛性。模拟运算表明，混合算法具有较高的效率及寻优可靠性。用本算法设计的均匀照明阵列，可以得到顶部均匀性为３．２％（ｒｍｓ）。In this paper, a novel hybrid algorithm which combines SA (simulated annealing) algorithm with GA (genetic algorithm) is used to design binary optics elements for ICF (inertial confinement fusion) uniform illumination. GA, which is a parallel algorithm, reserves historical information for SA, while SA′s parameter, temperature, is used to control GA′s convergence. Simulation calculation shows that the hybrid algorithm is effective and robust. A focal spot with a uniformity 3.2%(rms) and an efficiency approximating to 90% is obtained by this method.

关 键 词：模拟退火 遗传算法 ICF均匀照明 二元光学器件 

分 类 号：TN25[电子电信—物理电子学] TH740.3[机械工程—光学工程]