检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:晏海英[1] 姚树寅[1] 吴仲岿[1] 陈红[1,2]
机构地区:[1]武汉理工大学材料科学与工程学院,武汉430070 [2]武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉430070
出 处:《材料导报》2009年第8期11-13,共3页Materials Reports
基 金:国家自然科学基金(90606013;107080)
摘 要:利用波长为172nm的真空紫外光刻蚀技术(Vacuum ultraviolet lithography,VUV)对聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜的表面进行了图案化微加工,并采用扫描电镜和原子力显微镜对微图案化的PMMA膜的表面形貌进行了表征。此外,还通过跟踪测试真空紫外光照后PMMA膜表面随时间变化的水接触角研究了表面的亲疏水性。结果表明,利用该方法可以成功地在PMMA基材上一次性制备出保真度较好的亚微米级微流道,而且使微流道内表面具有稳定持久的亲水性。The sub-micron scale patterns is fabricated on polymethyl methacrylate(PMMA) surface by using vacuum ultraviolet lithography(VUV) at a wavelength of 172nm. The morphology of patterned PMMA surface is characterized by scanning electron microscopy(SEM) and atomic force microscopy(AFM), respectively. Besides, the hydrophilicility of VUV-exposed PMMA surface is analyzed by static water contact angle. The results show that submieron channels with high-fidelity are successfully prepared via one step manufacture and hydrophilicity on VUV-exposed PMMA surface stably maintains for a long time.
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