Ag/Si纳米颗粒多层膜的合成  

作　　者：赵建华[1,2] 张明[1] 曹立民 张湘义[1,2] 刘日平[1,2] 戴道阳[1] 陈红[1] 许应凡[1] 王文魁[1,2] 

机构地区：[1]中国科学院物理研究所 [2]燕山大学材料工程学院,秦皇岛066004 [3]燕山大学材料工程学院

出　　处：《中国科学（A辑）》1998年第5期438-442,共5页Science in China(Series A)

基　　金：国家"八六三"基金资助项目

摘　　要：使用多靶离子束溅射沉积方法制备出Ag/Si多层膜 .利用原位低角X射线衍射技术和截面高分辨透射电子显微镜观察 5 0～ 30 0℃退火过程中Ag/Si多层膜各亚层间发生的扩散现象 ,并由此分析研究Ag/Si多层膜微观结构变化 ,即Ag/Si纳米颗粒多层膜的形成过程 .计算出Si在Ag亚层中的扩散激活能和频率因子分别为 0 .2 4eV和 2 .0 2× 1 0 -2 0 m2 /s,纳米Ag颗粒的尺寸约为 5nm .

关 键 词：纳米薄膜 扩散 XRD 银/硅多层膜 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]