《专利法》修正案之现有技术抗辩条款及其相关条款的优化研究  

作　　者：唐春[1] 

机构地区：[1]华东政法大学知识产权学院

出　　处：《电子知识产权》2009年第5期24-27,共4页Electronics Intellectual Property

基　　金：国际自然科学基金重点项目(70633003)资助

摘　　要：《专利法》修正案新增加的"现有技术抗辩"制度不仅抗辩模式比较模糊,而且与外观设计权利条款和宽限期条款有冲突。该条款应当在"事实抗辩"和"权利抗辩"模式中择一立法,同时外观设计权利条款和宽限期条款也应作相应调整。

关 键 词：现有技术抗辩 外观设计权利 宽限期 权利限制 

分 类 号：D923.42[政治法律—民商法学]