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作 者:冉琴[1] 裴林森[1] 束继年[1] 陈从香[1] 俞书勤[1] 马兴孝[1] 武国华[2] 盛六四[2] 张允武[2]
机构地区:[1]中国科学技术大学化学物理系,合肥230026 [2]中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥230026
出 处:《化学学报》1998年第5期459-464,共6页Acta Chimica Sinica
基 金:国家自然科学基金资助课题(29373120)
摘 要:在超声射流冷却条件下用VUV同步辐射研究了CH_3I分子的光电离过程.测定了CH_3I光电离及解离电离产生的CH_3I^+,CH_3^+和I^+的出现势,结合已确认的热力学数据,估算出体系中有关离子的标准生成焓、分子和分子离子的键能、自由基的质子亲合势及母体离子的解离能等数据对CH_3I分子VUV光解离电离通道进行了分析.The photoionization and photodissociative ionization of CH3I have been investigated under the supersonic beam conditions by using synchrotron radiation. The appearance potentials (AP) of the ionic fragments from CH^l have been accurately determined. The standard formation enthalpies of the ions, bond energies DO of the molecules or molecule ions,proton affinities PA0 of the radicals,and the dissociation energy De of parent ion have been evaluated. The most possible channels of VUV dissociation photoionization have been analyzed.
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