XH_3Y(X=C,Si,Ge;Y=Cl,Br,I,D)型气相分子合成技术  

THE SYNTHETIC SKILL OF THE XH 3Y (X=C,Si,Ge;Y=Cl,Br,I,D)TYPE GAS MOLECULES

作　　者：周泽义[1] 邓珂[1] 谢立[2] 

机构地区：[1]中国科技大学选键化学开放实验室 [2]安徽省计量测试研究所

出　　处：《化学研究与应用》1998年第3期278-281,共4页Chemical Research and Application

摘　　要：ＸＨ３Ｙ（Ｘ＝Ｃ，Ｓｉ，Ｇｅ；Ｙ＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，Ｄ）型气相分子合成技术周泽义邓珂（中国科技大学选键化学开放实验室合肥２３００２６）谢立（安徽省计量测试研究所合肥２３００２２）关键词气相分子真空合成正交表中图分类号Ｏ６２１．２５５１ＩＶＸ的Ｃ、Ｓｉ、...On the basis of summarizing a number of references,we built up a set of instrument,wich is simple,practical and secure as used to synthesize and gather the XH 3Y(X=C,Si,Ge;Y=Cl,Br,I,D) gas molecules.

关 键 词：甲烷 甲硅烷 卤代 氘代 衍生物 四氢化锗 

分 类 号：O627.41[理学—有机化学] O627.41[理学—化学]