检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]华中科技大学控制科学与工程系,湖北武汉430074 [2]华中科技大学CAD中心,湖北武汉430074
出 处:《华中科技大学学报(自然科学版)》2009年第6期82-85,共4页Journal of Huazhong University of Science and Technology(Natural Science Edition)
基 金:国家自然科学基金资助项目(60604030)
摘 要:针对循环生产的半导体双产品制造过程提出了一种新的控制方法.此方法采用前面批次的参数估计机台漂移,机台干扰由前馈和未来批次的反馈控制综合决定.得到了系统输出和其渐进期望方差误差,并证明了渐进期望方差误差与不同产品的间隔无关.仿真结果表明这种方法是有效的.A novel control approach which deals with two product process in semiconductor manufacturing industry is presented. It eatimates the patterned tool drift by the data acquired in the previous run. The patterned tool disturbance is obtained by combination of feed-forward and the feedback control for the consecutive runs. The output and AMSE(asymptotic mean square error) are given. And it is proved that its AMSE is irrelated with the interval of the different products. The simulation results show that this approach is valid.
关 键 词:半导体生产 控制策略 批间控制 前馈控制 反馈控制
分 类 号:TP273[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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