(Ti,Al)N薄膜的制备及性能  

作　　者：陈建国[1] 程宇航[1] 游少鑫 吴一平[1] 乔学亮[1] 

机构地区：[1]华中理工大学,武汉430074

出　　处：《表面技术》1998年第4期15-17,共3页Surface Technology

摘　　要：用多弧离子沉积技术制备出(Ti,Al)N薄膜材料,系统研究了薄膜中Al含量对(Ti,Al)N薄的硬度、表面脆性、抗高温氧化性、耐磨性以及热疲劳性的影响.结果表明含22.5～30%Al的薄膜具有最佳的性能.

关 键 词：多弧离子镀 成分 性能 氮化钛 薄膜 

分 类 号：TG174.442[金属学及工艺—金属表面处理]