隐身技术的研究进展  

Research Progress of Cloaking Technique

作　　者：王琦[1] 张大伟[1] 袁丽萌[1] 陈家璧[1] 庄松林[1] 

机构地区：[1]上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海200093

出　　处：《激光与光电子学进展》2009年第8期55-60,共6页Laser & Optoelectronics Progress

基　　金：上海科委项目(07DZ22026);上海市自然科学基金(08ZR1415400);上海市研究生创新基金资助课题

摘　　要：分析了产生隐身的机理,阐述了几种隐身方法的进展情况。详细论述了基于超材料特殊晶体结构和等离子体的隐身技术,并对隐身技术的应用和发展前景进行了展望。With discussion of cloaking principle,the development of cloaking is reviewed.The techniques based on plasmonic cloak and 3D metamaterial cloak are proposed in detail.Its applications and development foreground are prospected.

关 键 词：超材料 等离子体 急身 隐身材料 

分 类 号：TH74[机械工程—光学工程] TB34[机械工程—仪器科学与技术]