等离子体沉积非晶SiO_x:H纳米膜层改性医用NiTi合金研究  

The study of amorphous SiO_x:H nanocoated on biomedical NiTi alloy by low-temperature plasma deposition

作　　者：沈阳[1] 王贵学[1] 张勤[1] 葛淑萍[1] 唐朝君[1] 俞青松[2] 

机构地区：[1]重庆大学生物工程学院应用生物技术中心,重庆400030 [2]美国密苏里大学表面科学与等离子体技术中心,密苏里65211

出　　处：《功能材料》2009年第8期1372-1375,1378,共5页Journal of Functional Materials

基　　金：科技部国际科技合作重点资助项目(2004DFA06400)

摘　　要：采用等离子体沉积技术在医用NiTi合金表面制备非晶SiOx：H纳米膜层，并对改性后材料表面化学及膜层晶体结构等进行表征。结果表明，通过控制TMS和Ox两种单体流速比和沉积时间，可控制材料表面亲疏水性和SiOx：H纳米膜层厚度。反应沉积的SiOx：H具有非晶的结构。其最优化条件为：卢（TMS）：μ（O2）-1：4，系统压力3．33Pa，D．C5W，沉积时间4min。所制备的膜层厚度约为45nm，表面去离子水接触角为30～40°。SiOx：H纳米膜层改性NiTi合金表面可提高材料的抗腐蚀性能。Low-temperature plasma deposition technique was used to prepare amorphous SiOx ： H nanocoating on the surface of biomedical NiTi alloy. The surface chemistry and crystal structure of SiOx： H coating were characterized. The results showed that the surface hydrophilicity and thickness of SiOx ： H nanocoating could be controlled by adjusting the flow ratio of TMS：O2 and deposition duration. The prepared plasma SiOx ： H nanocoating is amorphous structure. The optimal condition of plasma coating is TMS ： O3 = 1 ： 4ml/min,4min,D. C 5W,system pressure 3.33Pa. Under the condition, the thickness of SiOz ： H coating is about 45nm,the water contact angle on surface is about 30-40°. The corrosion resistance of NiTi alloy could be improved with plasma SiOx ： H nanocoating.

关 键 词：等离子体沉积SiOx: H纳米膜层 医用Ni—Ti合金 表面改性 

分 类 号：R318[医药卫生—生物医学工程]