射频阱中离子的激光溅射注入  

Injection of Ions Produced by Laser Ablation in an Ion Trap

作　　者：蔡永[1] 颜旻[1] 高克林[1] 朱熙文[1] 

机构地区：[1]中国科学院武汉物理与数学研究所波谱与原子分子物理国家重点实验室,武汉430071

出　　处：《中国激光》1998年第8期689-692,共4页Chinese Journal of Lasers

基　　金：国家自然科学基金资助项目

摘　　要：通过实验测出了激光溅射碳靶时存储离子强度随延迟时间的变化 ,计算出团簇离子的相对存储效率与离子动能之间的关系 ,并对实验结果作出了定性的解释。The velocities and kinetic energies of laser ablated carbon cluster ions injected into an RF trap are measured. The relative trapping efficiencies of these cluster ions are given. The results may be helpful for further research of cluster ions in the RF trap.

关 键 词：离子阱 激光溅 激光 

分 类 号：TN24[电子电信—物理电子学]