HF化学激光放大器的交叉弛豫动力学研究  

作　　者：范安辅[1] 高智[2] 周昕[1] 

机构地区：[1]四川大学光电科学技术系 [2]中国科学院力学研究所,北京100080

出　　处：《中国科学（A辑）》1998年第8期742-750,共9页Science in China(Series A)

基　　金：国家自然科学基金!(批准号 :194740 36 );中国科学院力学研究所高温气体动力学开放实验室资助项目

摘　　要：在低气压超声速cwHF化学激光放大器中 ,假设平动和转动非平衡交叉弛豫同时起作用 .对于气流介质的层流和湍流扩散混合两类流动模型 ,分别导出了饱和增益谱的表示式 ,并进行了数值计算 .计算结果表明 ,湍流扩散混合模型与实验结果符合得更好 .

关 键 词：化学激光器 交叉驰豫动力学 层流 湍流 

分 类 号：TN248.5[电子电信—物理电子学]