三维电子晶体制造新工艺问世  

出　　处：《新材料产业》2009年第9期84-84,共1页Advanced Materials Industry

摘　　要：日本京都大学大学院工学研究科的一个研究小组发布消息称，他们开发出一种能够大大缩短三维电子晶体制造时间的新工艺。三维电子晶体是一种能自由操纵光的新型材料，可用来高速处理光信号以及制造超小型光集成电路片，在下一代量子计算机的开发、新型人造卫星和飞机制造等方面有着广阔的应用前景。

关 键 词：制造新工艺 晶体 电子 三维 日本京都大学 光集成电路 量子计算机 新型材料 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程] TN248[电子电信—物理电子学]