磁场在硅集成电路制造工艺中的应用  

Application of Magnetic Field in Silicon Integrated Circuit Manufacture

作　　者：赵雨[1] 陈东生[1] 

机构地区：[1]上海电力学院数理系,上海201300

出　　处：《上海电力学院学报》2009年第4期388-390,共3页Journal of Shanghai University of Electric Power

基　　金：上海市青年科技启明星计划(07QA14026);国家自然科学基金(10804072)

摘　　要：分析了磁控直拉法技术和磁场增强型反应等离子刻蚀技术在现代半导体集成电路制造工艺中的应用.简要论述了学科交叉的重要意义.Two items of application of magnetic field in silicon integrated circuit manufacture namely, Magnetic Field Applied Czochralski and Merle Etcher technology are introduced and analyzed. Importance of interdisciplinary science is discussed.

关 键 词：磁场 半导体 集成电路 交叉科学 

分 类 号：O441.2[理学—电磁学] TN4[理学—物理]