改善永磁铁氧体磁瓦表面磁密分布的方法探讨  

作　　者：谢瑞兵[1] 张云程[1] 王自敏[1] 扬宇[1] 

机构地区：[1]宜宾职业技术学院,四川宜宾644001

出　　处：《磁性材料及器件》2009年第5期64-66,69,共4页Journal of Magnetic Materials and Devices

摘　　要：通过国内样品与日本样品的比较测量,找出了磁瓦表面磁密分布的差异;磁瓦表面磁密分布差异取决于取向度分布差异和密度分布差异,通过磁瓦制备工艺的分析,同时借鉴日本磁瓦生产工艺,改进磁瓦取向磁场的磁路结构、磁瓦压制工艺和磨加工工艺等,改善了永磁铁氧体磁瓦表面的磁密分布。

关 键 词：永磁铁氧体磁瓦 表面磁密 影响因素 

分 类 号：TM277[一般工业技术—材料科学与工程]