立方氮化硼薄膜的制备工艺  

Preparing Techniques of Cubic Boron Nitride Thin Film

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作  者:王钧石[1] 

机构地区:[1]西南交通大学,四川成都610031

出  处:《材料开发与应用》2009年第5期90-93,共4页Development and Application of Materials

基  金:西南交通大学校基金(项目编号:2004A01);中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室基金(项目编号:100027)

摘  要:介绍了几种立方氮化硼(C-BN)薄膜的制备工艺,并对薄膜中立方氮化硼相形成的影响因素进行了讨论。The Techniqnes preparing cubic boron nitride thin film were introduced. The factors influencing the form of cubic boron nitride in the thin film was discussed.

关 键 词:立方氮化硼 工艺 影响因素 

分 类 号:TG156.8[金属学及工艺—热处理]

 

参考文献:

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