分布反馈量子级联激光器的光栅制备  

Fabrication of gratings in the distributed feedback quantum cascade lasers

作　　者：李耀耀[2] 徐刚毅[1] 张永刚[1] 李爱珍[1] 魏林[1] 

机构地区：[1]中国科学院上海微系统与信息技术研究所,信息功能材料国家重点实验室,上海市200050 [2]中国科学院研究生院

出　　处：《功能材料与器件学报》2009年第5期471-476,共6页Journal of Functional Materials and Devices

基　　金：国家自然科学基金(编号:60676026;60406008;60136010);863项目(2006AA03Z0406);973(2006CB6049036)

摘　　要：利用全息曝光方法制备了分布反馈量子级联激光器的光栅掩模,选择和发展了恰当的用于InGaAs/InP材料的光栅腐蚀优化工艺,得到腐蚀规律,讨论了腐蚀机制。在量子级联激光器的InGaAs/InP层上制备光栅得到分布反馈量子级联激光器,其单模特性较好,信噪比大于30dB。In this paper, first order gratings for InP based distributed feedback quantum cascade lasers （ DFB - QCL） were fabricated by holographic lithography and wet chemical etching. The etching process was optimized for small patterns and good grating profiles. DFB QCL operating at room temperature in pulsed mode was demonstrated with a high side mode suppression ratio of about 30dB. The device results indicate the high quality of gratings.

关 键 词：分布反馈激光器 全息曝光 光栅制备 

分 类 号：TN365[电子电信—物理电子学] O627.521[理学—有机化学]