硫化锌薄膜的微结构和表面特性研究  

Study on Microstructure and Surface Characteristicsof Zinc Sulfide Thin Films

作　　者：陈谋智[1] 陈朋[1] 柳兆洪[1] 陈振湘[1] 孙书农[1] 刘瑞堂 

机构地区：[1]厦门大学物理学系,361005

出　　处：《固体电子学研究与进展》1998年第3期319-322,共4页Research & Progress of SSE

基　　金：国家自然科学基金;福建省自然科学基金

摘　　要：对射频磁控溅射法制备的掺铒硫化锌薄膜，运用X射线衍射和X射线光电子能谱技术，获得微晶薄膜的微结构和表面构态信息，揭示了电致发光薄膜的表面构态对激发态的影响。The zinc sulfide thin film devices doped with erbium prepared byRFMS are studied. The information of microstructure and surface structure statesof the crystallite film is obtained by XRD and XPS methods. The effects of the surface structure states of the elcctroluminescent thin film on exciting states are discussed.

关 键 词：电致发光 微晶薄膜 激发态 硫化锌 

分 类 号：TN304.25[电子电信—物理电子学] TN383.1