光催化用TiO_2薄膜中金属掺杂离子存在状态研究进展  

RESEARCH PROGRESS IN EXISTENTIAL STATE OF METAL IRON DOPED IN CATALYST OF TiO_2 FILM

作　　者：邢卓[1] 王秀峰[1] 程冰[1] 

机构地区：[1]陕西科技大学材料科学与工程学院,西安710021

出　　处：《中国陶瓷》2009年第11期14-18,共5页China Ceramics

摘　　要：介绍了国内外在金属离子掺杂改性TiO2薄膜的最新成果。分析取代型、产物型、间隙型、集聚型等四类掺杂离子在TiO2中的存在形式。介绍了几种金属离子的掺杂方法。总结了掺杂方法、工艺参数、结构形式及用量对薄膜性能的影响规律。The research progress in metal iron-doped TiO2 film is reviewed. Metal irons on the impact of TiO2 is analyzed through four states-substituent type, product type, interstice type and gathering type. Introduced several metal ions doping means. Summarized the doping method, the craft parameter, the structural style and the amount used to the thin film performance influence rule.

关 键 词：TIO2薄膜 掺杂 光催化 纳米晶 

分 类 号：TQ174.75[化学工程—陶瓷工业] TQ032[化学工程—硅酸盐工业]