微弧氧化技术及其发展  

Microarc Anodization Technique and Its Development

作　　者：刘建平[1] 旷亚非[1] 

机构地区：[1]湖南大学化学化工学院,长沙410082

出　　处：《材料导报》1998年第5期27-29,共3页Materials Reports

摘　　要：主要介绍微弧氧化技术的工艺机理、微弧氧化膜的制备方法、影响制备的因素以及氧化膜的结构和性质,并指出了该项技术的优点和不足。This article indroduces mainly the technological mechanism of microarc an- odization technique. the preparation melhod of microarc anodization film, faclors influencing the preparation film, factors influencing the preparation, and the structures and qualities of such film. The advantages and disadvantages are also pointed out.

关 键 词：微弧氧化 火花沉积 陶瓷膜 金属 氧化膜 涂层 

分 类 号：TG174.453[金属学及工艺—金属表面处理]