涂层导体用Ni-7%W合金基带的织构分析  

Structure analysis of Ni-7%W alloy substrate used for coated conductor

作　　者：祝永华[1] 索红莉[1] 赵跃[1] 高忙忙[1] 马麟[1] 高培阔[1] 王建宏[1] 周美玲[1] 

机构地区：[1]北京工业大学国家教育部功能材料重点实验室,北京100124

出　　处：《中国有色金属学报》2009年第11期2024-2028,共5页The Chinese Journal of Nonferrous Metals

基　　金：国家重点基础研究发展计划资助项目(2006CB601005);国家高技术研究发展计划资助项目(2007AA03Z242);国家自然科学基金资助项目(50771003);北京市自然科学基金资助项目(2072004)

摘　　要：采用先进的放电等离子烧结技术(SPS)制备Ni7W合金初始坯锭,通过优化高能球磨和烧结工艺以及后续和热处理工艺制备出高度立方织构的Ni7W合金基带。利用电子背散射衍射(EBSD)技术对Ni7W合金基带的晶粒取向、晶界特征等信息进行采集和分析,对其织构进行了表征。该基带无需抛光,即可获得高花样质量的电子背散射衍射图像。EBSD测试结果表明:该Ni7W基带表面10°以内立方织构晶粒质量分数高达99.4%,10°以内晶界长度质量分数为93.6%,具有高质量的立方织构。The cube textured Ni-7%W substrates were prepared by spark plasma sintered （SPS） ingot, followed by rolling-assisted biaxially textured substrate （RABiTS） processing. The grain orientation data and the grain boundaries information of the Ni-7%W（Ni7W） substrate were collected by electron backscatter diffractometry （EBSD）. The texture of the Ni7W substrate was analyzed. The high quality of EBSD image is observed on the sample surface after annealing process without polishing. The Ni7W substrate forms a sharp cube texture, and the mass fraction and length fraction of the cube texture grains in the Ni7W substrate reach 99.4% and 93.6%, respectively, within tolerance angle smaller than 10？.

关 键 词：Ni-7%W基带(Ni7W) 立方织构 涂层导体 

分 类 号：TM26[一般工业技术—材料科学与工程]