硫酸铜电解沉积的分形与电导率研究  

Study of fractal dimension and conductance of Cu samples with electrolytic deposition process

作　　者：李泰[1] 吕锷钢[1] 缪冰锋[1] 苏为宁[1] 江洪建[1] 

机构地区：[1]南京大学物理系,江苏南京210093

出　　处：《大学物理》2009年第12期50-53,共4页College Physics

基　　金：国家基础科学人才培养基金资助项目(0204G088);南京大学校级本科生科技创新训练项目资助

摘　　要：用电化学的方法,制备出具有分形结构的金属铜样品,计算了不同电解电压下铜样品的分形维数,并求出其电导率.发现随着电解电压的增大,分形结构的维数趋于增大,而铜样品的电导率减小.Fractal structures of Cu sample are prepared with electro-deposited method.The fractal dimension and the conductance of the samples under different voltages are calculated.It is found that the fractal dimension increases and the conductance decreases with increasing voltage.

关 键 词：分形 分形维数 电导率 

分 类 号：O415.5[理学—理论物理]