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作 者:汪晓[1]
机构地区:[1]湖南有色中央研究院有限公司,湖南长沙410200
出 处:《硬质合金》2010年第1期5-8,共4页Cemented Carbides
摘 要:借助XRD、SEM、纳米压痕和划痕仪研究了采用磁控溅射在硬质合金基体上沉积的TiN单层和TiN/Ti(C,N)多层涂层的组织结构和力学性能。研究表明:TiN与TiN/Ti(C,N)多层涂层的晶粒形貌均呈柱状晶结构,而TiN/Ti(C,N)多层涂层形成了TiN、Ti(C,N)交替的调制结构。由于界面强化作用,TiN/Ti(C,N)多层涂层表现出比TiN更高的硬度及与基体更好的结合力。Magnetron sputtered TiN single layer and TiN/Ti(C,N) multilayer coatings grown on cemented carbide substrates have been characterized by using X-ray diffraction (XRD), scanning electron spectroscopy (SEM) and nanoindentation, scratcher. Results show that TiN single layer and TiN/Ti (C,N) multilayer coatings exhibit columnar structure. The modulation structure comprised of TiN and Ti (C,N) layers has been formed in the TiN/Ti (C,N) multilayer coating. Compared to TiN coating, TiN/Ti (C,N) coating behaves higher hardness and better cohesive strength due to the interficial strength.
关 键 词:TiN/Ti(C N)多层涂层 微观结构 硬度 结合力
分 类 号:TG174.44[金属学及工艺—金属表面处理]
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