等离子体浸没离子注入与沉积技术的发展及前沿问题  

The Development and Key Problems of Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition

作　　者：王浪平[1] 王小峰[1] 汤宝寅[1] 

机构地区：[1]哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,哈尔滨150001

出　　处：《中国表面工程》2010年第1期9-14,共6页China Surface Engineering

基　　金：国家自然科学基金项目(10875033)

摘　　要：等离子体浸没离子注入与沉积技术可实现复杂形状零件表面垂直、均匀地离子注入与沉积处理,在材料表面改性领域具有广泛的应用前景。在技术发明后的20年间,该技术得到了快速的发展,但是也遇到了如何提高离子注入效率和注入均匀性、内表面注入、大面积注入等一系列问题。若上述问题得到解决,将极大的推进等离子体浸没离子注入与沉积技术的工业应用进程。Plasma Immersion Ion Implantati implantati an on the components with sophis componer ts. After its invention, PIIID has applicatio ns, the methods for high efficiency should be proposed. on and Deposition technology （PIIID） can obtain a uniform and perpendicular ion ticated shape. It has shown great potential in surface modification for industrial developed rapidly in recent years. However, in order to get wide commercial ion implantation, inner surface ion implantation and large area ion implantation should be proposed.

关 键 词：等离子体浸没离子注入与沉积 表面改性 发展 

分 类 号：TG172.444[金属学及工艺—金属表面处理]