检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:邓志杰(摘译)
出 处:《现代材料动态》2010年第1期11-12,共2页Information of Advanced Materials
摘 要:国家标准和技术研究所(NIST)的研究人员已“修订”了一项熟知的测量材料性质的方法以规范低k膜的机械强度测量方法,以帮助器件制造厂家更好地识别内连电介质膜“候选”材料。作为衬底(例如Si)上部和器件中导电体与元件之间的绝缘膜,低k电介质层的使用在不断增加。
关 键 词:电介质膜 试验方法 NIST 韧性 测量方法 材料性质 机械强度 研究人员
分 类 号:TB9[一般工业技术—计量学] TQ171.738[机械工程—测试计量技术及仪器]
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