国产 CR39 蚀刻材料双层片蚀刻技术研究  

作　　者：韩国胜[1] 王庆恒[1] 李晓戈[1] 石志侠[1] 苟全录[1] 马吉增[1] 

机构地区：[1]中国辐射防护研究院

出　　处：《辐射防护通讯》1998年第6期6-12,共7页Radiation Protection Bulletin

摘　　要：使用２３９Ｐｕα放射源辐照国产ＳＹ－１型ＣＲ３９片，研究了该片子的双层片电化学蚀刻参数特性。提出的双层片蚀刻技术可以提高蚀刻速度、消除电击穿干扰。实验初步确定的蚀刻条件：化学预蚀刻（７０℃；ＫＯＨ，６ｍｏｌ／Ｌ；３．５ｈ），电化学蚀刻（７０℃；ＫＯＨ，６ｍｏｌ／Ｌ；１．５ｈ；２５ｋＶ／ｃｍ；１．５ｋＨｚ）。利用液体镭盐标准氡源研究了该片子的测氡性能，采用５０×３０ｍｍ扩散取样盒测量，实验确定的氡刻度转换因子为３．５１±０．

关 键 词：氡 蚀刻技术 预蚀刻 电化学蚀刻 蚀刻材料 

分 类 号：TN405.98[电子电信—微电子学与固体电子学]