PCVD工艺中的热迁移效应  

Thermophoretic Effect In PCVD Process

作　　者：张穆[1] 

机构地区：[1]长飞光纤光缆有限公司,430073

出　　处：《光通信研究》1998年第6期43-47,56,共6页Study on Optical Communications

摘　　要：本文讨论在1．0±0．05g／min的沉积速率下PCVD工艺中的热迁移效应，以及它对工艺及产品质量的影响。This paper discuses about the thermophoretic effect in PCVD process under the condition of 1. 0±0. 05g/min deposition rate. Its influence on both process and products quality is also mentioned.

关 键 词：PCVD 热迁移效应 沉积 光纤传输线 

分 类 号：TN818.05[电子电信—信息与通信工程]