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作 者:张吉英[1] 申德振[1] 范希武[1] 吕有明 杨宝均[1]
机构地区:[1]中国科学院长春物理研究所
出 处:《光电子.激光》1998年第6期443-445,共3页Journal of Optoelectronics·Laser
基 金:国家"八六三"高技术光电子主题;国家自然科学基金;中国科学院长春物理研究所激发态物理开放实验室资助
摘 要:用光助低压MOCVD进行ZnSe及ZnSeN外延层生长,由发光光谱表明,在光助下生长的本征ZnSe外延膜具有高质量;ZnSeN外延层中与N有关的深中心发射得到有效抑止。其p-ZnSe受主载流子浓度达3×1017cm-3。在制备的n-ZnSe/ZnCdSe-ZnSeQW/p-ZnSe结构中,在室温下观测到该二极管电脉冲下的蓝色电致发光(EL)p type ZnSe epilayers were grown using t Butylamine (TBA) as a nitrogen dopant source by photo assisted low pressure metal organic chemical vapour deposition (LP MOCVD).Growth pressure was 10108Pa (76 torr) and growth temperature was 380℃.The deep centra emission could be suppressed in p ZnSe epilayers grown with the irradiation.The acceptor concentration in p ZnSe was obtained about 3×10 17 cm -3 .ZnSe PIN (n ZnSe/ZnCdSe ZnSe QW/p ZnSe structure) diodes were prepared.The blue electroluminescence (EL) was observed at a wavelength of 479nm under forward pulse excitation at room temperature (RT).
关 键 词:光助MOCVD 室温 蓝色EL 外延生长 硒化锌
分 类 号:TN304.054[电子电信—物理电子学] TN304.25
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