常低温磷化促进方法的研究进展  被引量:6

Progress in Research of Methods for Accelerating Low and Room Temperature Phosphating

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作  者:黄亚军[1] 熊金平[1] 左禹[1] 

机构地区:[1]北京化工大学材料科学与工程学院,北京100029

出  处:《材料保护》2010年第4期57-60,64,共5页Materials Protection

摘  要:对常低温磷化的促进方法进行了综述,列举了化学促进方法中常用的促进剂,概括了常低温磷化促进方法的研究现状与发展趋势。A review was given about the methods for accelerating low and room temperature phosphating. The acceler-ators commonly used in chemical accelerating of low and room temperature phosphating were listed,and current status and de-velopment trend of research on methods for accelerating low and room temperature phosphating were briefed.

关 键 词:常低温磷化 促进方法 促进剂 研究进展 

分 类 号:TG174.4[金属学及工艺—金属表面处理]

 

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