高气压屏栅电离室的调试和^(58)Ni(n,p)反应双微分截面的试测  

Adjustment of high-pressure twin gridded ionization chamberand preliminary measurement of 58Ni(n,p) reaction

作　　者：张雪梅[1] 陈泽民[1] 梁伟[1] 唐国有[2] 张国辉[2] GledenovYd KhuukhenkhuuG SedyshevaMV 

机构地区：[1]清华大学,北京100084 [2]北京大学重离子研究所,北京100871 [3]俄罗斯联合原子核研究所

出　　处：《核技术》1999年第1期11-16,共6页Nuclear Techniques

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：介绍了高气压屏栅电离室的结构和调试，并对５８Ｎｉ（ｎ，ｐ）试测结果进行了分析，结果证明此电离室和测量方法对（ｎ，ｐ）反应的测量是适用的。目前正用此电离室进行测量（ｎ，ｐ）反应截面的实验．A high-pressure twin gridded ionization chamber is introduced. After someadjustments, the chamber was used to measure the 58Ni(n,p) reaction. The resultsshow that the current system and method are suitable for the research of (n,p)reactions.

关 键 词：高气压 屏栅 电离室 (n p)反应 核反应 微分截面 

分 类 号：O571.1[理学—粒子物理与原子核物理] TL811.1[理学—物理]