CH薄膜泡沫复合平面调制靶制备初步研究  

作　　者：尹强 

出　　处：《中国工程物理研究院科技年报》2009年第1期31-32,共2页Annual Report of China Academy of Engineering Physics

摘　　要：瑞利-泰勒（R—T）流体力学不稳定性是制约惯性约束聚变（ICF）实验点火的重要因素之一。研究证明，通过在有机薄膜或低密度泡沫上人为引入面密度扰动可以模拟靶丸表面的不完整性，通过测量激光对靶烧蚀过程中靶密度扰动的时空分布非线性增长，可估算R—T不稳定性的大小。关于调制薄膜制备的方法国内目前仅有数篇报道，但有关薄膜泡沫复合调制靶的制备还未见相关文献报道。

关 键 词：复合调制 CH薄膜 靶制备 泡沫 力学不稳定性 平面 惯性约束聚变 密度扰动 

分 类 号：TL639.11[核科学技术—核技术及应用]