射频磁控反应溅射制备TiO_2薄膜  

Preparation of anatase TiO_2 films by RF magnetron reactive sputtering

作　　者：陈浩[1] 李金泽[2] 厉以宇[1] 苏晓东[2] 

机构地区：[1]温州医学院眼视光学与视觉科学国家重点实验室培育基地,浙江温州325027 [2]苏州大学物理科学与技术学院江苏省薄膜材料重点实验室,江苏苏州215006

出　　处：《苏州大学学报（自然科学版）》2010年第2期51-55,共5页Journal of Soochow University(Natural Science Edition)

基　　金：温州市工业科技研究开发项目(G20070082);江苏省高校自然科学基金(08KJB140007)

摘　　要：研究采用射频磁控溅射的方法在石英玻璃基片上制备TiO2薄膜的最佳工艺条件.薄膜的相组成和微观组织分别采用XRD、SEM和AFM来分析.实验表明:在450℃的基片温度下,使用0.8 Pa的工作气压和20∶2的Ar∶O2流量比可以获得单一锐钛矿相的TiO2薄膜.紫外光照射分解甲基橙的实验表明具有单一锐钛矿相的TiO2薄膜具有较好的光催化能力,可以有效降解有机分子.TiO2 thin films were prepared by radio-frequency（RF） magnetron sputtering.The phase content and the microstructure films were studied by XRD,SEM and AFM,respectively.It was found that the pressure of 0.8 Pa and the Ar∶O2 ratio of 20∶2 are the optimized condition to obtain single anatase phase in the TiO2 films.The decomposition of Methyl Orange was accelerated by using TiO2 film as catalyst under the irradiation of ultraviolet（UV） light.

关 键 词：TIO2薄膜 射频磁控溅射 光催化 

分 类 号：TB321[一般工业技术—材料科学与工程]