硫化锌薄膜的微结构剖析  

Microstructural Dissection of Zinc Sulfide Thin Films

作　　者：柳兆洪[1] 陈谋智[1] 孙书农[1] 刘瑞堂 林爱清[1] 邓彩玲[1] 肖细凤[1] 

机构地区：[1]厦门大学物理系

出　　处：《固体电子学研究与进展》1999年第1期97-100,共4页Research & Progress of SSE

基　　金：福建省自然科学基金

摘　　要：用Ｘ射线衍射和Ｘ射线光电子能谱技术，对分舟热蒸发法研制的掺铒（Ｅｒ）硫化锌直流电致发光薄膜及硫化锌粉料进行剖析，获得薄膜表面及粉料的构态信息，讨论了影响微晶薄膜质量的主要因素。The zinc sulfide DCEL thin films doped with erbium, prepared by thermal evaporation with two boats, are analysed with XRD and XPS technologies. The structure state information of ZnS powder and thin film surface is obtained. The factors influencing on the quality of microcrystalline thin films are discussed as well.

关 键 词：硫化锌 直流电致发光 微晶薄膜 稀土掺杂 

分 类 号：TN304.25[电子电信—物理电子学] TN383.105