真丝新材料的双折射取向结构研究  

Studies on Double_Refraction Orientation Structure of New Silk Materials

作　　者：胡凤霞[1] 盛家镛 管新海 陈宇岳 张健[2] 

机构地区：[1]苏州大学丝绸学院 [2]安徽省商检局

出　　处：《丝绸》1999年第3期12-15,共4页Journal of Silk

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：对多种真丝新材料的双折射取向结构进行研究，同时采用色那蒙补偿法测定桑蚕膨松丝、膨体弹力真丝、记忆桑蚕丝、普通桑蚕丝的双折射率并计算其取向度；分析了各种真丝新材料之间的双折射率差异以及在不同条件下真丝纤维的双折射取向结构变化。Studies the double_refraction orientation structures of some new silk materials such as bulk mulberry silk yarn,bulk stretch silk yarn,memory mulberry silk,with their double_refraction indices measured by compensative_birefringence method and their orientation degrees calculated.Furthermore,the difference between double_refraction indices and the variation of double_refraction orientation structures of various new materials are analyzed.

关 键 词：真丝新材料 双折射率 取向结构 真丝纤维 

分 类 号：TS101.921[轻工技术与工程—纺织工程]