NO^＋BF4^-催化脱除TBS和THP保护基还原羟基的研究  

作　　者：王建涛[1] 伍文韬[1] 徐艳芬[1] 吴隆民[1] 

机构地区：[1]兰州大学功能有机分子化学国家重点实验室,兰州730000

出　　处：《科学通报》2010年第24期2451-2451,共1页Chinese Science Bulletin

基　　金：国家自然科学基金资助项目(20572040)

摘　　要：有机合成中,叔丁基二甲基硅甲（TBS）醚和四氢吡喃（THP）醚常被用以保护羟基,氟离子和酸性水溶液又可以很容易地使其分解而脱保护.近年来,化学氧化法脱除这些保护基尽管有了新的进展，然而用于此目的的氧化剂却存在一些缺点，诸如：用量大、反应条件苛刻、操作复杂等．

关 键 词：催化脱除 保护基 羟基 TBS 还原 酸性水溶液 化学氧化法 有机合成 

分 类 号：O621.25[理学—有机化学]