检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:刘玉德[1,2] 王西彬[1] 石文天[2] 杨玥[1] 张翔[1]
机构地区:[1]北京理工大学先进加工技术国防重点学科实验室,北京100081 [2]北京工商大学机械工程学院,北京100048
出 处:《北京理工大学学报》2010年第7期869-872,共4页Transactions of Beijing Institute of Technology
基 金:国家自然科学基金资助项目(50875026)
摘 要:研究氧化亚铁硫杆菌(T.f菌)的生长特性以及在紫外线作用下的诱变机理.用20 W的紫外灯对距离30 cm的T.f菌液照射300 s,每间隔15 s测量一次T.f菌液的氧化还原电势以及pH,分别绘制出其与时间的变化关系.紫外线照射240 s时,T.f菌的氧化还原电势和pH分别达到303 mV和1.98的最佳值.研究结果表明,经过紫外线诱变强化的T.f菌具有更好的生物刻蚀能力,氧化亚铁硫杆菌的细菌浓度和氧化活性有较大的提高,刻蚀加工的金属零件轮廓更清晰.The thiobacillus ferrooxidans(T.f) 's growth characteristics and mutagenic mechanism under the action of the ultraviolet radiation was studied.T.f was irradiated for 300 s by ultraviolet lamp with 20 W.The redox potential and pH in etching liquid were measured every 15 s.The pH history and redox history were given,respectively.The optimal values of the redox potential and pH were 303 mV and 1.98 respectively when T.f was irradiated for 240 s.The mutagenized and strengthened T.f possesses of the better etching ability.It also has higher bacterial concentration and stronger oxidation active.The minigear structure is more distinct by using mutagenized T.f etching.
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在链接到云南高校图书馆文献保障联盟下载...
云南高校图书馆联盟文献共享服务平台 版权所有©
您的IP:216.73.216.222