超净高纯试剂与紫外光刻胶  

PROCESS CHEMICALS AND UV PHOTORESIST.

作　　者：孙世铭[1] 

机构地区：[1]北京化学试剂研究所

出　　处：《精细与专用化学品》1999年第10期8-10,1,共3页Fine and Specialty Chemicals

摘　　要：超净高纯试剂和紫外光刻胶作为IC生产工艺中的关键材料,随着IC生产向亚微米和深亚微米方向发展,对他们提出了新的要求。As key materials in IC production process, process chemicals and photoresists are expected to meet new demands with t he development of IC towards sub - micrometer and deep sub -micrometer.

关 键 词：超净高纯试剂 紫外光刻胶 试剂 集成电路 

分 类 号：TN4[电子电信—微电子学与固体电子学] TQ421.4[化学工程]