螺旋波激发等离子体源的原理和应用  

PRINCIPLE AND APPLICATIONS OF HELICONWAVE EXCITED PLASMA SOURCES

作　　者：房同珍[1] 

机构地区：[1]中国科学院物理研究所

出　　处：《物理》1999年第3期162-167,共6页Physics

摘　　要：介绍了一种低气压、高密度等离子体源———螺旋波激发等离子体源（ＨＷＰ），讲述了它的结构位形、天线耦合原理和参数设计原则，该离子源在实际中的应用以及目前研究状况．A low pressure, high electron density plasma source——helicon-wave excited plasma source is described. Its configuration, antenna coupling and parameter design are outlined as well as a perspective of its application in etching and deposition and certain unsolved problems.

关 键 词：螺旋波 等离子体 天线耦合 HWP 结构原理 

分 类 号：O531[理学—等离子体物理]