源位置对高纯锗效率校准的影响  

作　　者：李立华 徐鹍 石宗仁 

出　　处：《中国原子能科学研究院年报》2009年第1期289-290,共2页

摘　　要：高纯锗效率校准在高能部分需用到加速器或反应堆，这时用到的靶往往是面状的，这时高纯锗对面上各点的效率不一致，在国防技术基础项目《高纯锗γ射线探测器（HPGe）在1～11MeV能区效率的校准方法研究》中，源在实验中的位置如图1所示。

关 键 词：高纯锗 校准 位置 Γ射线探测器 MEV能区 国防技术 反应堆 加速器 

分 类 号：TL817.2[核科学技术—核技术及应用]