真空中多孔氮化硅的高温弯曲强度  

High Temperature Flexural Strength of Porous Silicon Nitride Ceramics Under Vacuum Conditions

作　　者：浑丙利[1] 陈欲超[1] 王红洁[1] 张健[2] 张大海[2] 

机构地区：[1]西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安710049 [2]航天材料及工艺研究所先进功能复合材料国防重点实验室,北京100076

出　　处：《宇航材料工艺》2010年第2期91-93,共3页Aerospace Materials & Technology

基　　金：先进功能复合材料国防重点实验室基金(9140C5602040805);国家自然科学基金(90816018)

摘　　要：研究了高温真空环境下多孔(气孔率>50%)氮化硅陶瓷的弯曲强度,并进行了初步分析。结果表明,多孔氮化硅陶瓷在真空中的高温强度随温度上升而降低,由于没有氧化作用,晶界玻璃相在高温下的软化成为影响其强度的主要因素。High temperature flexural strength of porous silicon nitride ceramics （no less than 50% porosity） under vacuum conditions was studied, and the phases after high temperature strength testing was analysed also.The results show that the flexural strength of porous silicon nitride ceramics is negatively related with temperature under vacuum condition.The softening of glassy phase on grain boundary under high temperature is the main factor influencing the strength decrease.

关 键 词：多孔氮化硅 真空 高温 弯曲强度 

分 类 号：TQ174[化学工程—陶瓷工业]