金属薄膜系统电子功函数随温度和覆盖度变化规律研究  

The influence of temperature and coverage degree on the work function of metal film

作　　者：文国知[1] 

机构地区：[1]武汉工业学院数理科学系,湖北武汉430023

出　　处：《武汉工业学院学报》2010年第4期111-114,共4页Journal of Wuhan Polytechnic University

摘　　要：通过建立金属薄膜系统吸附模型,导出了金属薄膜吸附系统电子功函数W随温度T和覆盖度θ的变化关系式,并对铕Eu在钨W（100）面的吸附进行了计算.计算结果发现,铕Eu在钨W（100）面的功函数的温度系数随温度的升高而减小,功函数随温度升高而增大,随覆盖度增大而增大.A model of the metal film adsorption system is established to study the influence of temperature T and coverage degree θ on the work functionWof the system.The thermal coefficientχand work functionWare found.From the thermal coefficient χ and work functionWof the Eu film on W（100） surface,we find that the thermal coefficientχdecreases with temperature T rise,the work function Wincreases with temperatureTrise and coverage degree θ increase.

关 键 词：功函数 温度系数 吸附系统 覆盖度 

分 类 号：TN304.02[电子电信—物理电子学]