关于强流ECR质子源氢等离子体发射光谱的诊断研究  

OES diagnostics of H_2 plasma in an intense ECR proton source

作　　者：冯哲[1] 张小章[1] 刘占稳[2] 赵红卫[2] 

机构地区：[1]清华大学工程物理系,北京100084 [2]中国科学院近代物理研究所,兰州730000

出　　处：《核技术》2010年第12期933-936,共4页Nuclear Techniques

基　　金：清华大学微型脉冲强子源项目资助

摘　　要：本文通过发射光谱诊断方法,用H_2等离子体的辐射碰撞模型对连续溃入的微波功率和全永磁磁场约束下产生高密度的H_2等离子体进行光谱诊断,计算出一定放电条件下(微波功率200-700 W,压强0-2 Pa)H^+的密度为1010-1011 cm^(-3),另外讨论了实验中观察到的Balmer系氢原子发射光谱强度随放电条件的变化规律。In this study, we use the optical emission spectrum （OES） method to determine the electron density of H2 plasma produced by contiguous ECR microwave heating and restricted by an axial magnetic field that produced by an all-permanent-magnet design （NdFeB rings）. The H^＋ density obtained is about 1010-1011 cm^-3 under 200-700 W of the microwave and 0-2 Pa of the gas pressure. The intensity of Balmer lines of hydrogen atoms in excitation state varies with microwave power and gas pressure.

关 键 词：质子源 H2等离子体 激发态氢原子 巴尔默系 离子密度 发射光谱 辐射碰撞 

分 类 号：O539[理学—等离子体物理] O433.1[理学—物理]