硅CCD和红外CCD研制中的HWLPCVD技术  

作　　者：程开富[1] 

机构地区：[1]重庆光电技术研究所

出　　处：《四川真空》1999年第1期41-43,共3页

摘　　要：着重介绍热壁ＬＰＣＶＤ（ＨＷＬＰＣＶＤ）的特点、改善薄膜均匀性的措施，对ＣＣＤ转移效率的影响以及在非致冷微测辐射热计中的应用。

关 键 词：CCD 多路传输器 硅 红外CCD HWLPCVD 薄膜 

分 类 号：TN304.055[电子电信—物理电子学] TN304.12