利用非晶硅结构的光电容来进行室温红外光电探测  

作　　者：D.Caputo 贡树行 

机构地区：[1]意大利罗马大学电子工程系

出　　处：《红外》1999年第5期22-25,共4页Infrared

摘　　要：本文我们提出一种新的器件,它是根据非晶硅材料制成的,通过室温电容测量,能够直接探测红外辐射。该器件是一种p-c-n型叠层结构,这里c表示一层补偿的非晶硅吸收层。器件的运转是基于价带内的扩展态和禁带内的缺陷之间的跃迁而进行的,跃迁是由红外辐射引起的。我们发现:测量的电容敏感于800nm～5μm波段。

关 键 词：非晶硅 光电探测 光电容 红外探测 

分 类 号：TN215[电子电信—物理电子学]