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机构地区:[1]空军第一航空学院物理教研室,河南信阳464000 [2]青岛大学纤维新材料与现代纺织国家重点实验室培育基地,山东青岛266071
出 处:《湖北大学学报(自然科学版)》2010年第4期414-417,共4页Journal of Hubei University:Natural Science
基 金:国家自然科学基金项目(10474019)资助
摘 要:采用sol-gel方法在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)衬底上制备出了(100)择优取向的BiFeO3薄膜.XRD研究表明,600~650℃退火的薄膜结晶较好.AFM形貌显示,650℃退火的薄膜中等轴状晶粒大小均匀(直径100~150nm),薄膜较为致密.电学性能测量结果表明,650℃退火、厚度为840nm的薄膜的2Pr值为2.8mC/cm2;在50kV/cm外加电场下,漏电流为2.7×10-5 A/cm2.电流-电压特性显示,在欧姆区之上,薄膜的主要导电机制为波尔-弗兰克尔发射导电.BiFeO3 thin films of(100) preferential orientation were deposited through sol-gel process on(111)Pt/Ti/SiO2/(100)Si substrates.X-ray diffraction pattern indicates that good annealing temperature of films are 600~650 ℃.The dense thin film annealed at 650 ℃was composed of uniformed grains with equiaxed shape(100~150 nm in diameter).The film(840 nm) annealed at 650 ℃ show very low remanent polarization(2Pr) of 2.8 mC/cm2 and large leakage current of 2.7×10-5 A/cm2 at 50 kV/cm.The main conduction mechanism of the thin films is Poole-Frankel emission conduction above the ohmic region.
分 类 号:TB303[一般工业技术—材料科学与工程]
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