电镀液和电镀层中铜和锰的联合测定  

Combined Determination of Copper and Manganese in Electroplating Solution and Electroplated Layer by Spectrophotometry

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作  者:王尊本[1] 王润棠[1] 

机构地区:[1]厦门大学化学系教育部材料和生命过程分析科学开放研究实验室

出  处:《厦门大学学报(自然科学版)》1999年第4期562-568,共7页Journal of Xiamen University:Natural Science

摘  要:当pH=10时,铜和锰都能与PAR生成稳定的红色络合物;当pH=7时,锰与PAR几乎不络合,而铜与PAR则可以稳定络合.利用这种差异,可以在pH=10的介质中测定铜和锰的合量,而在pH=7的介质中测定铜的量,再由两者之差求得锰的含量.试验表明,pH=10.0时,εCu-PAR498.5=4.66×104L/mol·cm;εMn-PAR498.5=8.00×104L/mol·cm;pH=7.0时,εCu-PAR498.5=4.26×104L/mol·cm.相对标准偏差小于3%,回收率为95%~101%.Cu 2+ and Mn 2+ can complex with PAR to form stable red compounds at pH = 10.0. At lower pH values, Mn 2+ cann′t complex with PAR ,while Cu PAR is still stable and remains a relatively high absorbance. According to this difference , Cu 2+ and Mn 2+ can be determined at different pH in the aqueous phase by spectrophotometry. The molar absorptivities of the two complexes are found to be 4.66×10 4 L/mol·cm (for Cu 2+ at pH=10.0), 4.26×10 4 L/mol·cm(for Cu 2+ at pH=7.0) and 8.00×10 4 L/mol·cm(for Mn 2+ at pH =10.0) respectively. The relative standard deviations are less than 3 % and the recoveries are 95%~101% .This method is applied to determine the content of Cu and Mn in the electroplating solution and electroplated layer.

关 键 词:电镀液 电镀层   分光光度法 测定 

分 类 号:TQ153[化学工程—电化学工业] O657.3[理学—分析化学]

 

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