检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]光通信与光电子学教育部重点实验室(北京邮电大学),北京100876
出 处:《北京邮电大学学报》2010年第6期84-87,共4页Journal of Beijing University of Posts and Telecommunications
基 金:国家高技术研究发展计划项目(2009AA03Z405);国家自然科学基金项目(60908028);中央高校基本科研业务费专项项目(BUPT2009RC0411)
摘 要:从理论角度定量地研究了量子点垂直腔表面发射激光器(QD-VCSELs)中GaNAs应变补偿层对InAs/GaAs量子点阵列生长质量的改善作用,得出了不同补偿浓度和补偿位置对补偿效果影响的规律,得到了确定最佳补偿参数的途径.为长波长(1.2~1.6μm)QD-VCSELs中量子点有源区的制备提供了理论指导.The GaNAs strain compensation layers for the growth quality of the InAs/GaAs quantum dots stack in quantum dots vertical-cavity surface-emitting lasers (QD-VCSELs) are investigated. The influ- ences of different concentrations and locations of the compensation is obtained. The approach in determining the optimal compensation parameters is also achieved. We give instructions in fabricating the QD active region in QD-VCSELs of long wavelength ( 1.2 - 1.6 μm).
分 类 号:TN304.02[电子电信—物理电子学]
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