直流辉光放电光谱分析铜合金的基本特性研究  

Study on Some Basic Characteristics of Glow Discharge for Analysis of Copper Alloy

作　　者：黄卫红[1] 胡斌[1] 王雷[1] 江祖成[1] 廖振环[1] 

机构地区：[1]武汉大学化学与环境科学学院,武汉430072

出　　处：《武汉大学学报（自然科学版）》1999年第4期399-402,共4页Journal of Wuhan University(Natural Science Edition)

基　　金：湖北省自然科学基金

摘　　要：用自行组装的直流辉光放电原子发射光谱（ｄｃ Ｇ Ｄ Ａ Ｅ Ｓ）仪器对分析铜合金的某些基本特性进行了研究 探讨了光源放电室结构、放电气体压力、放电电压等操作参数以及试样尺寸大小对放电性能及元素谱线强度的影响，并进行了优化 考察了在不同放电气压条件下样品的溅射率和优化条件下辉光放电的稳定性最后，分析了铜合金标准样品中的 Ａｌ和 Ｍｎ。Some characteristics of glow discharge for analysis of copper alloy were studied. The influences of GD source structure, operating parameters (gas pressure, discharge potential) and the size of sample on emission spectra, sputtering rate and electric behavior were investigated. The discharge stability was also examined. Under the selected operation conditions, Al and Mn in copper alloy were determined and a satisfactory result was achieved.

关 键 词：直流辉光放电 原子发射光谱 铜合金 

分 类 号：TG146.11[一般工业技术—材料科学与工程] O657.3[金属学及工艺—金属材料]