基于紫外光刻的微纳光纤布喇格光栅研究  

Research on microfiber-based Bragg gratings fabricated by ultraviolet-light exposure

作　　者：余小草[1] 姜文宁[1] 张英[1] 周敏雯[1] 李新碗[1] 陈建平[1] 

机构地区：[1]上海交通大学区域光纤通信网与新型光通信系统国家重点实验室,上海200240

出　　处：《光通信技术》2011年第2期25-27,共3页Optical Communication Technology

基　　金：国家973计划(ID2011CB301700)资助;国家自然科学基金项目(60877012;61071011;61001074;61007039;61007052)资助;上海市重大基础项目(10DJ1400402)资助;上海市重点基础项目(09JC1408100)资助;上海交大研究生创新基金资助

摘　　要：介绍紫外光刻法制作微纳光纤布喇格光栅(MF-BG)的制作工艺,测量并分析不同直径的微纳光纤布喇格光栅的反射谱。数据表明随着微纳光纤的直径变小,光纤光栅的中心波长蓝移且反射强度也随之减小。仿真计算微纳光纤的有效折射率和光纤纤芯的束缚能力(即基模分布在纤芯的能量与基模全部能量的比值),来解释上述变化。We fabricated MicroFiber-based Bragg Gratings（MF-BG）） by ultraviolet-light exposure and measured the reflected spectrums of microfiber-based gratings with different diameters.Our experimental results reveal that Bragg wavelength blue-shifts and reflection intensity gradually decreases when microfiber diameter reduces.We investigated the characteristics by numerically calculating the effective refractive index and confinement factor of microfiber with different diameters.

关 键 词：微纳光纤 布喇格光栅 微器件制作 传感 

分 类 号：TN256[电子电信—物理电子学]