几种氟碳薄膜制备方法及其表面形貌特征分析  

Several Preparation Methods of FC Film and Its Surface Morphology Characteristics

作　　者：陈晖[1] 周细应[1] 孙卿[1] 马树杰[1] 

机构地区：[1]上海工程技术大学材料工程学院,上海201600

出　　处：《磨料磨具通讯》2011年第1期20-22,共3页

摘　　要：本文介绍了等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）和磁控溅射法制备氟碳（FC）薄膜，概述了相应FC薄膜的表面形貌特征，主要介绍了电感耦合等离子体化学气相沉积法（ICP—CVD）、电子回旋共振等离子体化学气相沉积法（ECR—CVD）、介质阻挡放电等离子增强化学气相沉积法（DBD—PECVD），最后比较分析了各种制备方法的优缺点。Preparation of fluorocarbon （FC） film by plasma- enhanced chemical vapor deposition （PECVD） and magnetron sputtering are introduced, then the corresponding FC film surface characteristics, which focused on coupled plasma chemical description vapor deposition （ICP-CVD）, electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition （ECR-CVD）, dielectric barrier discharge plasma enhanced chemical vapor deposition （DBD-CVD）, are summarized. Finally, the advantages and disadvantages of various preparation methods were comparatived.

关 键 词：氟碳薄膜 制备方法 表面形貌 

分 类 号：O613.71[理学—无机化学]